Deskripsi
Essence-nya yang ringan membantu mengembalikan kelembapan sekaligus mendukung lapisan pelindung kulit, memungkinkan kulit yang rapuh untuk pulih dalam kondisi yang lebih seimbang dan nyaman. Formula ini juga membantu menenangkan peradangan dan meningkatkan kenyamanan kulit secara keseluruhan selama periode pemulihan yang paling sensitif.
Selain itu, masker ini membentuk lapisan pelindung lembut di atas permukaan kulit, membantu mengurangi iritasi eksternal dan menurunkan risiko paparan bakteri pada kulit yang bermasalah. Hal ini membuatnya sangat cocok digunakan setelah perawatan profesional di mana kulit membutuhkan hidrasi dan perlindungan.

Bahan:
Air, Gliserin, Butilen Glikol, Eritritol, Allantoin, Natrium Hialuronat, Karbomer, Natrium Hialuronat Terhidrolisis, Arginin, Panthenol, Madecassoside, Kalium Glisirizat, Ektoin, Ekstrak Stephania Tetrandra, Ekstrak Portulaca Oleracea, Ekstrak Daun Mentha Arvensis, Ekstrak Chrysanthellum Indicum, Ekstrak Akar Sophora Angustifolia, Ekstrak Aloe Barbadensis, Ekstrak Pelargonium Graveolens, 1,2-Heksanediol, Pentilen Glikol
Bahan utama
Madecassoside & Dipotassium Glycyrrhizate – Membantu menenangkan iritasi, mengurangi kemerahan yang terlihat, dan mendukung kulit halus setelah prosedur.
Panthenol, Allantoin & Ectoin – Memberikan hidrasi yang menenangkan, meningkatkan kenyamanan kulit, dan membantu mendukung lapisan pelindung kulit.
Natrium Hialuronat & Natrium Hialuronat Terhidrolisis – Mengembalikan kelembapan dan membuat kulit terhidrasi, kenyal, dan lembut.
Ekstrak Portulaca Oleracea, Aloe Barbadensis & Chrysanthellum Indicum – Menenangkan kulit yang stres dan membantu meredakan rasa panas dan tidak nyaman.
Ekstrak Stephania Tetrandra & Ekstrak Daun Mentha Arvensis – Menyegarkan dan menenangkan kulit sekaligus mendukung kondisi kulit yang tenang dan seimbang.


Teknologi Formula
Perawatan Pendinginan & Penenangan Seketika
Madecassoside, Dipotassium Glycyrrhizate, Panthenol, dan ekstrak tumbuhan membantu meredakan rasa panas, perih, dan kemerahan yang terlihat dengan cepat.
Dukungan Penghalang Hidrasi
Kombinasi asam hialuronat, ektoin, dan humektan mengisi kembali kelembapan dan mendukung lapisan pelindung kulit yang rapuh selama fase darurat.
Teknologi Selubung Pelindung
Masker gel ini membentuk lapisan pelindung lembut di atas kulit setelah prosedur, membantu mengurangi stres eksternal dan mendukung lingkungan pemulihan yang lebih nyaman.
Manfaat Utama
- Mendinginkan dan memberikan kenyamanan seketika pada kulit halus setelah prosedur.
- Membantu meredakan rasa panas, perih, kemerahan, dan kekeringan.
- Memberikan hidrasi yang menenangkan sekaligus mendukung lapisan pelindung kulit.
- Membentuk lapisan pelindung lembut di atas kulit selama fase darurat.


Hasil Terlihat
Setelah 3 hari penggunaan intensif, pengguna melaporkan:
- Kemerahan yang terlihat berkurang hingga -45%
- Hidrasi kulit meningkat hingga +54%
- Rasa panas dan perih berkurang hingga -43%
- Kenyamanan dan ketenangan kulit meningkat sebesar +50%.
Hasil setiap individu dapat bervariasi. Berdasarkan survei penilaian mandiri.



























